IC模擬版圖設計-了解版圖
版圖的定義：版圖是在掩膜制造產品上實現 電路功能且滿足電路功耗、性能等，從版圖上減少工藝制造對電路的偏差，提高芯片的精準性。

版圖的意義
1）集成電路掩膜版圖設計師實現集成電路制造所必不可少的設計環節，它不僅關系到集成電路的功能是否正確，而且也會極大程度地影響集成電路的性能、成本與功耗。
2）它需要設計者具有電路系統原理與工藝制造方面的基本知識，設計出一套符合設計規則的“正確”版圖也許并不困難，但是設計出最大程度體現高性能、低功耗、低成本、能實際可靠工作的芯片版圖缺不是一朝一夕能學會的本事。想要了解更多關于版圖的知識，可以關注“IC修真院”官網
版圖的工具：
Cadence
Virtuoso
Dracula
Assura
Diva
Mentor
calibre
Spring soft
laker
版圖的設計流程

第二部分：版圖設計基礎
認識版圖
版圖組成兩大部件
2.1 器件
2.2 互連
版圖編輯器
電路圖編輯器
了解工藝廠商
版圖設計基礎
版圖是電路圖的反映，有兩大組成部分
2.1器件
2.1.1 MOS管
2.1.2 電阻
2.1.3 電容
2.1.4 三極管（省略）
2.1.5 二極管（省略）
2.1.6 電感（省略）
2.2互連
2.2.1金屬（第一層金屬，第二層金屬……）
2.2.2通孔
2.1 器件
2.1.1 MOS管


2.1 器件
2.1.1 MOS管
1) NMOS管
以TSMC，CMOS，N單阱工藝為例
NMOS管，做在P襯底上，溝道為P型，源漏為N型
2) 包括層次：
NIMP，N+注入
DIFF，有源區
Poly，柵
M1，金屬
CONT，過孔
3) MOS管的寬長確定
4) 當有PCELL時;當無 PCELL時

2.1 器件
2.1.1 MOS管
1) NMOS管
以TSMC，CMOS，N單阱工藝為例
PMOS管，做在N阱中，溝道為N型，源漏為P型
2) 包括層次：
NWELL，N阱
PIMP，P+注入
DIFF，有源區
Poly，柵
M1，金屬
CONT，過孔
3) MOS管的寬長確定


由于內容過，今天就分享到此，如果大家有更多的需求可看版圖設計基礎筆記

總結

以上是生活随笔為你收集整理的集成电路模拟版图入门-版图基础学习笔记（一）的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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