11 月 6 日消息，日本佳能一直在投資納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術，并計劃將新型芯片制造設備的價格定在阿斯麥最好光刻機的很小一部分，從而在光刻機領域取得進展。

納米壓印技術是極紫外光刻（EUV）技術的低成本替代品。佳能首席執行官御手洗富士夫 (Fujio Mitarai) 表示，該公司最新的納米壓印技術將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條道路。

“這款產品的價格將比阿斯麥的 EUV 少一位數，”現年 88 歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁，上一次退出日常運營是在 2016 年。御手洗富士夫還說，最終的定價還沒有敲定。

總部位于荷蘭費爾德霍芬的阿斯麥是極紫外光刻機的唯一供應商。極紫外光刻機是世界上最先進的芯片制造機器，每臺價值上億美元。這種設備是幾十年大量研究和投資的產物，對于大規模生產速度快、能耗低的先進芯片至關重要。

但只有少數現金充裕的公司有能力購買極紫外光刻機。這給佳能最新上市的納米壓印芯片制造設備帶來了希望。

自今年年初以來，佳能股價上漲了 27%，其競爭對手尼康公司也上漲了 24%。

佳能與日本印刷綜合企業大日本印刷株式會社（Dai Nippon Printing Co.）以及存儲芯片制造商鎧俠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究納米壓印技術已有近十年的時間。與通過反射光工作的極紫外光刻技術不同，佳能研究的納米壓印技術是將電路圖案直接印在晶圓上，從而制造出據稱幾何形狀與最先進節點相當的芯片，但速度要慢得多。

這種新設備有望讓芯片制造商降低對芯片代工廠的依賴，同時也讓臺積電和三星電子等芯片代工廠更有可能批量生產芯片。佳能表示，這種機器所需功率只有 EUV 同類產品的十分之一。

御手洗富士夫表示：“我不認為納米壓印技術會取代 EUV，但我相信這將創造新的機會和需求。”“我們已經收到了很多客戶的咨詢。”

佳能此前一直專注于制造普通芯片，2014 年開始大力投資納米印記技術，收購了主攻納米壓印技術的分子壓模公司 (Molecular Imprints Inc.)。作為臺積電的供應商之一，佳能正在東京北部的宇都宮市建設 20 年來的第一家光刻設備新工廠，將于 2025 年投產。

御手洗富士夫擔任佳能總裁已近 18 年，自 2006 年以來一直擔任佳能首席執行官。他出生于 1935 年，1995 年首次執掌佳能時，曾因將公司從運營困境中解救出來而廣受贊譽。

佳能最近任命了一批新董事，將于明年加入董事會，其中包括現年 65 歲的佳能美國首席執行官小川和人、59 歲的工業集團總裁武井宏明和 61 歲的高級執行總裁淺田實，這標志著一批新高管正在崛起。

御手洗富士夫說：“尋找繼任者是我的責任。”他拒絕就卸任時間、潛在候選人以及公司尋找新一任首席執行官的積極程度等細節信息發表評論。

“我希望這是一個完全的驚喜，”他說。“我們的員工將首先了解它，然后其他人將通過新聞發布會聽到它。”

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總結

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