樓主理解有偏差，一下是網(wǎng)路上一些介紹。你想的好像目前還沒有這種技術(shù)。美國Anvik Corporation的研究員，發(fā)展了一套高通量無光罩微影術(shù)，不再需要昂貴的光罩系統(tǒng)，同時可以一次進行大面積的曝光，可望達到和傳統(tǒng)使用光罩的微影術(shù)相近的生產(chǎn)效能。將一臺大的圖樣縮小轉(zhuǎn)移到另一臺基板上，稱作“微影術(shù)”（lithography）。傳統(tǒng)上，要制造微電子或光電元件，所需要的圖樣是利用光罩系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到基板上。（看過皮影戲嗎？就是這樣的原理。）然而在諸如平面顯示器等大尺寸應(yīng)用上，光罩及相關(guān)設(shè)備的成本非常高，發(fā)展生產(chǎn)效能和傳統(tǒng)方法相近的無光罩微影術(shù)便成了其中一種解決方案。Anvik Corporation的研究員Klosner和Jain即在最近一期的Applied Physics letters上發(fā)表了他們所發(fā)展出的高通量無光罩微影術(shù)。他們使用波長為436nm的雷射光作為光源，通過光學(xué)系統(tǒng)之后將光束截面調(diào)整為一臺正六邊形，接著經(jīng)過一臺PBS（polarizing beam splitter）之后，打在SLM（spatial light modulator）上。SLM一共有256x256像素，每個像素可由電路控制為開或關(guān)。若是“開”，則該像素所反射的光的極化方向會旋轉(zhuǎn)90度；若是 “關(guān)”則反射光極化方向不變。反射光回到PBS之后，極化方向不變的光會直接穿透，極化方向改變的光則會被反射到透鏡組，接著家用投影在基板上。藉由電腦控制每個像素的開或關(guān)，同時對基板不同位置掃描，就可以將想要的圖樣轉(zhuǎn)移到基板之上。一臺25x25mm的區(qū)域約需100次掃描。將光束截面調(diào)整為正六邊形，是Jain在之前所研究出的方法，能夠使每次掃描相鄰區(qū)域的接合處之不均勻度降到最低。若依傳統(tǒng)方法，只要控制上有點誤差，在相鄰區(qū)域的接合處不是沒曝光到就是曝光過度；使用正六邊形截面的光束，在每次掃描時有部分重疊，即使控制有誤差，接合處的曝光量仍不會和中心區(qū)域相差太遠(yuǎn)。利用這個方法，可以使整個基板上的任何地方的曝光量都很均勻。Jain等人正在發(fā)展下一代的無光罩微影術(shù)，估計其生產(chǎn)效能可達到每平方英吋只需45秒，解析度可達1μm，加上其較低的成本，已具有和傳統(tǒng)光罩技術(shù)競爭的能力。無光罩微影(Masklesslithography)。這種技術(shù)以電子束為基礎(chǔ)，總部設(shè)在荷蘭代夫特的Mapper Lithography公司正在大力推動該技術(shù)的發(fā)展。2009年7月，Mapper向法國格拉諾布爾的研究機構(gòu)CEA-Leti提供了一臺300毫米電子束微影平臺，供臺灣集成電路制造股份有限公司(簡稱臺積電)從事相關(guān)研究。

總結(jié)

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