光敏印章是上個世紀九十年代初由日本發明的，它是由一種特殊的化工合成材料，通過專用設備瞬間發出強光輻射，使材料表面發生光氧化及熱交聯作用從而制成的印章。基本原理是利用特殊材料的感光性，在印章表面不需要印跡的地方形成一層不能滲透的膜，從而達到印章的效果。印油通過光敏平面橡膠滲透，因此，使用光敏印章制作印章速度快。光敏印章的工藝特點是印面相對比較平整，印面字跡是由光敏橡膠墊上的微孔組成的，印油在壓力作用下，通過印面文字微孔滲出形成印文。光敏印章印跡清晰，字跡的干涸時間短，附著力強，具有較強耐水性。成品外形美觀、結構合理。使用次數為2-3萬次。

總結

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