今年四月，兩大芯片制造商臺積電和三星先后宣布了 5 納米制造工藝。臺積電稱它的 5 納米制程提供了 15% 的性能提升或 30% 的功耗改進，三星稱它的新工藝提供了 10% 的性能提升或 20% 的功耗改進。

　　分析師表示這些數據與預期的相符合。這與十年前的 50% 提升不可同日而語，但從芯片工廠的投資判斷，客戶仍然認為這是值得的。 5 納米工藝將使用極紫外光刻技術，能在硅片上產生極端精細的圖案。

　　光刻機非常昂貴，一臺價值就超過一億美元。極紫外光刻將是未來工藝制程的核心。在 5 納米之后將是 3 納米，但 5 和 0 之間的數字不多了，摩爾定律終結之日正一步步逼近。

總結

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