眾所周知最先進的光刻機是由荷蘭生產的 ，而且獨此一家，我國在光刻機領域可以說是落后20年都不為過。但是與光刻機同等重要的刻蝕機，我國卻突然走到世界前列。

據IC Insights的數據，時至今日，蝕刻設備的國產化率已經達到20%以上，而且國產蝕刻機的市場規模也在隨著中國半導體市場規模的擴張不斷提升。截至2019年，中微半導體掌握了多款具有自主知識產權的芯片設備，在全球范圍內申請的專利數量達1200多項。

站在全球市場的角度來看，雖然美國泛林半導體、應用材料以及日本的東京電子這三家頂尖的蝕刻機公司占據了94%的市場。但除了日美三巨頭之外，中國的蝕刻機龍頭企業中微半導體，也處于業界領先地位。公開資料顯示，中微半導體正式成立于2004年，至今為止已有16年的發展史。

中國目前刻蝕機研發中，處于世界領先水準，其中中微半導體的已經造成5nm介質刻蝕機，供貨給臺積電，值得一提的是，中微半導體也是唯一進入臺積電7nm制程蝕刻設備的大陸本土設備商。據悉，中微半導體與臺積電在28nm制程時便已開始合作，并一直延續到10nm和7nm制程。中微尹志堯博士的團隊在氣體噴淋盤上耗費了很大精力去鉆研。另外包括功率電源、真空系統、刻蝕溫度控制等，這些都影響刻蝕結果。

近日，國產芯片行業傳來消息，中微3nm 刻蝕機 Alpha 原型機的設計、制造、測試及初步的工藝開發和評估也已完成，進入了量產階段，可以說領先世界，之前，中微的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線。

其實掌握蝕刻機制造技術對于中國半導體芯片制造而言同樣具有重要意義。在這一方面不同于光刻機領域，蝕刻機是目前我國最具優勢的半導體設備領域。

總結

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