去年，我國芯片的設(shè)計和生產(chǎn)被國外封鎖，而制造芯片的環(huán)節(jié)中光刻機是必不可少的一份，但恰恰光刻機這種東西世界上沒有幾個國家能造的出來。

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。光刻機作為工業(yè)制造之花，已經(jīng)是真正高科技的象征，這個設(shè)備非常精密，沒有他芯片幾乎是制造不出來的。

簡單來說，就是在硅片上覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠，再用紫外光透過掩模照射硅片，被光線照射到的光刻膠會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。此后用特定顯影液去洗硅片上的光刻膠，就完成了把電路圖從掩模轉(zhuǎn)移到硅片上的工作，這是制造芯片中的重要一步。

光刻包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個主要方面：1、光復(fù)印工藝：經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光致抗蝕劑薄層上。

2、刻蝕工藝：利用化學(xué)或物理方法，將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質(zhì)層除去，從而在晶片表面或介質(zhì)層上獲得與抗蝕劑薄層圖形完全一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的，因而光刻工藝總是多次反復(fù)進行。例如，大規(guī)模集成電路要經(jīng)過約10次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。

而光復(fù)印技術(shù)就是光刻機，而刻蝕工藝就是蝕刻機。目前全球最先進的荷蘭ASML公司，其在生產(chǎn)光刻機的過程中也需要用大量美國的技術(shù)以及美國的供應(yīng)商，這也是為何美國可以阻止ASML公司將光刻機賣給中國的原因，同樣，這也是美國可以阻止全球各大芯片代工廠給中國企業(yè)生產(chǎn)芯片的原因，因為這些企業(yè)所使用的，大部分都是ASML的機器。

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目前光刻機在芯片領(lǐng)域是一個炙手可熱的設(shè)備，我國芯片發(fā)展受阻正是因為沒有先進的光科技造成的。

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總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的光刻机是干什么用的 芯片制造的必须环节的全部內(nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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