VLSI Basic2——OCV
PVT - Corner?是什么
????????芯片在生產過程中,由于外界條件和生產條件的變化,比如PVT,可能會產生不同的誤差從而導致同一晶圓上不同區域上的芯片里的晶體管速度變快或者變慢,并因此產生corner概念。
兩種不同的PVT環境(BC/WC):
- best case corner(BC):timing-arc的時間最短
- worst case corner(WC):timing-arc的時間最長
OCV模式,AOCV模式,POCV模式,LVF模式均是在不同PVT(不同corner)的基礎上添加derate。
為什么需要OCV(On-chip variation)
????????芯片里面使用很多個cell,只讀進來一個庫,假定buffer分布在各個地方,只要input transition和output load一樣,在庫里查表,算出的cell ?delay一樣。?
????????但是由于工藝(P)、電壓(V)和溫度(T)在大芯片上的變化,延遲具有不確定性。
????????OCV考慮到芯片上 PVT 變化引起的延遲變化,從而提供更準確的延遲估計。
OCV基本理念:
????????對launch, capture和data line上的cell或者net加一個固定的derate數值,使得setup和hold等時序約束比理想狀況更加悲觀從而能夠覆蓋部分實際生產中所產生的variation。
????????OCV在path上設置統一的derate,悲觀度較高。(derate數值是指對launch、capture、data line的cell或者net上添加一個比理想情況更為悲觀的倍數。)
舉例:?
針對setup,launch的derate統一設置為1.1,表示delay時間增加值原來的1.1倍,
capture的derate統一設置為0.9,表示delay時間變為原來的0.9倍。
從而使設計能夠覆蓋實際生產過程中產生的variation。針對common path,利用cppr將悲觀量移除。
OCV發展:
?OCV分類:?
?AOCV
????????隨著工藝的發展,一條路徑處于不同的位置上,乘以系數,過于悲觀。當一種cell處于同一條路徑,variation是相互抵消的。一個cell處于芯片不同位置所產生的差別,會跟這個cell所處路徑的深度(depth)級數、距離有關系,AOCV出現。
?????????AOCV在考慮到實際誤差并非統一值的情況下將余量值變成cell級數的函數,從而減少一定的設計悲觀量(Pessimism)。
????????在傳統OCV上引入了對路徑長度和整個路徑在物理上所跨越的距離的考慮。在實際設計中,通過對一條line中cell在不同的邏輯深度時的仿真,以及基于前后級在物理中不同距離來得到一個更精確的derate值來進行時序分析,而不是OCV傳統的粗放式的統一的derate。
AOCV derate table:
(1)path depth:基于cell在整條時序路徑中所處的深度或者級數來考慮derate
(2)path distance:基于路徑中cell或net跨越的物理距離來給出相應的derate
POCV
????????又稱SOCV(Statistical On Chip Variation)。POCV將delay模擬成一個正態分布。每個cell的delay最高概率出現在 u周圍。整體落在區間內的概率為99.7%。
后端基礎概念:各種OCV一網打盡(上篇)!
后端基礎概念:各種OCV一網打盡(下篇)!
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總結
以上是生活随笔為你收集整理的VLSI Basic2——OCV的全部內容,希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。
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