华为公开“芯片及其制备方法”专利:提升芯片强度 解决裂纹
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华为公开“芯片及其制备方法”专利:提升芯片强度 解决裂纹
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企查查APP顯示,近日,華為技術有限公司公開一種“芯片及其制備方法、電子設備”專利,用于解決裸芯片上出現裂紋,導致裸芯片失效的問題。
該專利公開號CN112309991A,申請日2019年7月26日,公開日2021年2月2日。
華為在專利說明書中表示,電子系統中的核心部件則為裸芯片,裸芯片結構的穩定性決定了電子系統的穩定性。
然而,在現有技術中,制備裸芯片,或對裸芯片進行封裝時,因受熱或受壓后容易出現裸芯片中膜層與膜層之間開裂,或者膜層斷裂,導致裸芯片失效的問題。
本申請實施例提供一種芯片及其制備方法、電子設備,用于解決裸芯片上出現裂紋,導致裸芯片失效的問題。
芯片,包括功能區和位于功能區外圍的非功能區,芯片包括:半導體基底;多層介電層,設置于半導體基底上,且介 電層的一部分位于非功能區;至少一個第一加強件,位于非功能區;第一加強件嵌入至少兩層介 電層,且第一加強件與其嵌入的介電層相連接。
總結
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